Подложки из арсенида галлия (GaAs)

Подложки из арсенида галлия, легированного кремнием. Используются в оптоэлектронике для изготовления инжекционных лазеров, свето- и фотодиодов, фотокатодов.

В размерном ряду представлены подложки толщиной 450 и 625 мкм и диаметром 100 мм.

СВЧ техника

СВЧ техника

Оптоэлектроника и фотоника

Оптоэлектроника и фотоника

Полупроводниковые приборы и датчики

Полупроводниковые приборы и датчики

Фотоприёмные устройства (ФПУ, МФПУ)

Фотоприёмные устройства (ФПУ, МФПУ)

Фотоэлектрические преобразователи (солнечные батареи)

Фотоэлектрические преобразователи (солнечные батареи)

Диаметр, мм100
Толщина, мкм450; 625
Отклонение от номинала, мкм± 25
Кристаллографическая ориентация, °(100); (100)+10°; (111) А
Тип проводимостиN
Ориентационные срезы по стандартуSEMI EJ
ПолировкаДвухсторонняя
Легирующая примесьSi
Подвижность носителей заряда, см²/В·сек> 1200
Концентрация носителей заряда, см-3От 1·1017 до 3·1018
Плотность дислокаций, см-2< 500
TTV минимум, мкм2
TTV стандарт, мкмдо 5

Ваш менеджер

Наталия Морозова

Наталия Морозова

Москва

Руководитель проектов по направлению Оптомеханика